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晶源实验室专用ROEDI超纯水设备

更新时间：08-3-31 10:45


先进工艺+基本控制型（反渗透+电去离子+普通电器控制）		先进工艺+先进控制（反渗透+电去离子+ PLC +人机界面）
控制部件配置：采用转子流量计采用防震含油压力表采用液位开关控制器采用电导率表采用电阻率仪采用通用电器控制采用普通直流稳压稳流电源产水量:75～300L/H 产水电阻率:LM型≥5MΩ·cm MM型≥10MΩ·cm HM型≥15MΩ·cm 注:如需生产电阻率≥18MΩ·cm的超纯水,可选配抛光混床; 对细菌有要求,可选配UF超滤; 对TOC有要求,可选配TOC分解器。		控制部件配置：采用流量变送器采用压力变送器采用液位变送器采用电导率变送器采用电阻率变送器采用人机界面、PLC编程控制器数字显示流量、压力、液位、RO产水电导率、EDI产水电阻率采用高频直流稳压稳流电源产水量:75～300L/H 产水电阻率:LM型≥5MΩ·cm MM型≥10MΩ·cm HM型≥15MΩ·cm 注:如需生产电阻率≥18MΩ·cm的超纯水,可选配抛光混床; 对细菌有要求,可选配UF超滤; 对TOC有要求,可选配TOC分解

HJJ-ROEDI-HM高纯度系列成套设备工作运行参数
ROEDI设备规格型号	RO产水量 L/H	RO脱盐率 %	EDI产水量 L/H	EDI产水电阻率 mΩ.cm
HJJ-ROEDI-HM-100	150	99	100	5～18
HJJ-ROEDI-HM-200	250	99	200	5～18
HJJ-ROEDI-HM-300	350	99	300	5～18
注明：RO表示反渗透设备；EDI表示EDI设备；HM表示产水电阻率：15～18 MΩ·cm；MM表示产水电阻率：10～15 MΩ·cm；LM表示产水电阻率：5～10 MΩ·cm；B表示板式结构；CT表示成套设备。 ROEDI成套设备包括：预处理设备、反渗透设备、EDI设备等。HM系列终端含抛光混床及UV/UF设备。

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